联系方式
联系电话:
010-57989188
联系人:
党先生（四十五所市场部）：150 1083 3580
段先生（半导体清洗设备）：153 2152 0153
朱先生（电子元件设备）：156 9999 6627
SB-402双面曝光机（光刻机）
SB-402双面曝光机（光刻机）主要用于半导体光电器件、功率器件、传感器、混合电路、微波器件及微电子机械系统（MEMS）等制作的双面对准和曝光。最大兼容4英寸晶圆。主要技术特点对准工作台：高精度薄型精密双层三维对准工作台，采用交叉滚柱V形导轨副和θ向超薄轴承及中心滑块结构，保证了工作台的直线性和旋转精度。机械手机构：机械手采用直线导轨和滚珠丝杠结构，具有高的定位精度和重复精度。上版架系统：上掩模版的升降导轨选用THK可调分离型直线导轨，驱动采用高分辨率的数显微分头，从而保证两掩模版的重复精度和定位精度。对准观察系统:双光路结构的卧式分离视场显微镜，可以获取高清晰的图像同时兼容CCD成像液晶显示功能电气控制系统：整机采用PLC+触摸屏控制，提供运行状态显示及多种检测功能，易于操作，控制精度高，性能稳定。曝光系统：上、下两套独立的紫外光曝光系统，采用先进的结构方案，具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。
所属分类
芯片制造设备
关键词：集成电路制造设备，半导体照明器件制造设备，光伏电池制造设备，光电组件制造和系统集成与服务
产品描述
SB-402双面曝光机（光刻机）主要用于半导体光电器件、功率器件、传感器、混合电路、微波器件及微电子机械系统（MEMS）等制作的双面对准和曝光。最大兼容4英寸晶圆。
主要技术特点
对准工作台：
高精度薄型精密双层三维对准工作台，采用交叉滚柱V形导轨副和θ向超薄轴承及中心滑块结构，保证了工作台的直线性和旋转精度。
机械手机构：
机械手采用直线导轨和滚珠丝杠结构，具有高的定位精度和重复精度。
上版架系统：
上掩模版的升降导轨选用THK可调分离型直线导轨，驱动采用高分辨率的数显微分头，从而保证两掩模版的重复精度和定位精度。
对准观察系统:
双光路结构的卧式分离视场显微镜，可以获取高清晰的图像同时兼容CCD成像液晶显示功能
电气控制系统：
整机采用PLC+触摸屏控制，提供运行状态显示及多种检测功能，易于操作，控制精度高，性能稳定。
曝光系统：
上、下两套独立的紫外光曝光系统，采用先进的结构方案，具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。
