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BG-406系列曝光机
BG-406系列曝光机主要用于中小规模集成电路、二极管、三极管、GPP器件、LED、电力电子器件、MEMS和其它半导体器件制造工艺中的对准和曝光。该系列曝光机包括4″、6″单/双面曝光机，可实现单/双面对准、单面曝光。
所属分类
接触接近式光刻设备
关键词：集成电路制造设备，半导体照明器件制造设备，光伏电池制造设备，光电组件制造和系统集成与服务
产品描述
BG-406系列曝光机主要用于中小规模集成电路、二极管、三极管、GPP器件、LED、电力电子器件、MEMS和其它半导体器件制造工艺中的对准和曝光。该系列曝光机包括4″、6″单/双面曝光机，可实现单/双面对准、单面曝光。
主要技术指标
适用最大基片尺寸：Max 6″（φ150 mm）
适用最大掩模版尺寸：Max 7″（175×175 mm）
对准精度
顶部显微镜：±1μm
底部显微镜：±3μm
曝光分辨率：1.5μm（胶厚≤1μm正胶、真空接触）
