联系方式
联系电话:
010-57989188
联系人:
党先生（四十五所市场部）：150 1083 3580
段先生（半导体清洗设备）：153 2152 0153
朱先生（电子元件设备）：156 9999 6627
SB-402双面曝光机
所属分类
接触接近式光刻设备
关键词：集成电路制造设备，半导体照明器件制造设备，光伏电池制造设备，光电组件制造和系统集成与服务
产品描述
该设备主要用于半导体光电器件、功率器件、传感器、混合电路、微波器件及微电子机械系统（MEMS）等领域的双面对准和曝光。
主要技术指标
适用基片尺寸 Max 4″（φ100mm）
适用掩模版尺寸 Max 5″（125mm×125mm）
上下掩模版对准精度 ±3um
掩模对基片对准精度 ±3μm（以单一面两标记形位检测）
曝光分辨率 3μm（正胶）5μm（负胶）
