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BG-401B曝光机
主要用于中小规模集成电路和半导体元器件制造工艺中的对准及曝光。本产品采用LED光源，操作方便、稳定性高、重复性好，并具有较高的性能价格比，可广泛应用于科研和生产。
所属分类
接触接近式光刻设备
关键词：集成电路制造设备，半导体照明器件制造设备，光伏电池制造设备，光电组件制造和系统集成与服务
产品描述
主要用于中小规模集成电路和半导体元器件制造工艺中的对准及曝光。本产品采用LED光源，操作方便、稳定性高、重复性好，并具有较高的性能价格比，可广泛应用于科研和生产。
主要技术指标
适用基片尺寸 Max. φ4″（φ100mm）
适用掩模版尺寸 Max. 5″（125mm×125mm）
基片与掩模版分离间隙 0～0.05mm
对准精度 ±1μm
曝光光源 UVLED灯
曝光分辨率 1.5μm（正胶真空复印）
