太阳能硅片清洗设备
划片设备
硅片清洗设备
光刻设备
产品规格参数:
SB-601型曝光机
主要用于功率电子器件、传感器、光电子器件、微波电路、MEMS(微电子机械系统)以及其它新型电子元器件的单、双面对准及曝光工艺。
1. 独特的版架支撑系统,可对基片与掩模之间的接触压力进行调节和显示,实现掩模与基片的精确分离和接触。2. 底部和顶部对准观察系统扫描范围大,成像清晰、定位精度高。物镜由微电机驱动,可独立进行X、Y、Z向三维调节,移动速度线性可调。3. 由多关节机械手和预对准台实现自动上、下片,提高生产效率。4. 采用先进的空气轴承设计,可快速、精确地进行楔形误差补偿,结构自由度高,找平效果好。 高性能恒功率汞灯电源,易于触发,可靠性高,并具有安全保护功能。