45所历程 1958年：中电科技集团第45研究所的前身天津电子管厂开始筹建 1965年：搬迁至甘肃省平凉市 1975年：改为半导体专用设备研究所 2000年：在河北三河燕郊开发区建立分所， 2002年：随着中国电子科技集团公司的成立，更名为中国电子科技集团公司第四十五研究所 科技研发 1975年 研制成功我国首台精缩照相机，获国家科技进步一等奖 1978年 研制成功我国首台图形发生器 　 1984年 研制成功我国首台分步光刻机，并获得电子工业科技进步一等奖 1993年 研制成功我国首台双面光刻机，并获得国家级新产品奖，电子工业科技进步三等奖 1997年 研制成功我国首台超低温阵列探针测试台，获电子工业科技进步二等奖 1997年 研制成功我国首台全自动探针测试台 2005年 承担的国家重点科研项目“SB-601型双面光刻机”通过了设计定型和验收，该设备是国内第一台实用化的6英寸双面光刻机，在国内处于领先水平 2005年 金刚石内圆刀片镀制成型装置技术、旋转冲洗设备专用无刷电机驱动装置、油墨打印头三项专利全国第十五届发明展银奖 2005年 8英寸晶片减薄机通过国家鉴定，该设备进给分辨率可达0.1μm，具有世界先进水平，在此基础上减薄出60μm的片子为国内首创