BG-401A型曝光机

主要用于中小规模集成电路、声表面波器件和其它各种半导体元器件制造工艺中的对准及曝光。

主要技术特点

※ 对准精度高，漂移小。精密楔形误差补偿机构实现三点找平，找平力小，延长掩模版使用寿命。 ※ 采用柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球反射镜等精密光学件，具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。 ※ 在X、Y方面进行大范围扫描观察，可进行单视场或双视场切换，提高对准效率和套准精度，同时兼容CCD成像显示功能。 ※ 电气控制采用可编程控制器（PLC）、LCD显示屏，操作方便，汞灯电源易于触发，可靠性高。该设备的关键件采用进口或专业厂家制造，气动元件采用SMC的产品，提高了设备的稳定性、可靠性，同时提供个性化服务。

主要技术指标

□ 工作台行程：       X向：±5mm     Y向：±5mm       Z向：3mm       θ向：±12° □ 掩模尺寸：5″×5″ □ 基片尺寸：φ4″ □ 基片与掩模微分离间隙：0-0.05mm  □ 曝光分辨率：1.5um（真空接触） □ 曝光系统及波长：采用250W超高压汞灯，UV400 □ 曝光方式：真空接触、硬接触 □ 曝光时间：0-999.9s连续可调 □ 曝光面积：φ108mm □ 曝光不均匀性：±3%  □ 分离视场显微镜       总倍率：100×（50×可选）       扫描范围：50mm×50mm       调焦范围：8mm       物镜分离距离：28-90mm  □ 所需设施：       输入电压：  ～220V±22 V(50Hz)       整机功率：  1KW                室内光线:   红色、黄色       压缩空气：  0.5～0.7MPa       氮气：      0.2～0.4MPa       真空：      －0.08～－0.1MPa  □ 体积及重量：       外形尺寸： 1000mm×700mm×1300mm        重量：300kg